1 设备

    1.1 设备应设置电压、电流、温度、真空度和气体流量的测量指示仪表，温度应能自动控制和记录。

    1.2 设备的极限真空度应不低于6.7Pa，压升率应不大于 1. 3 X10-¹Pa/min。
    1.3 设备应有可靠的灭弧装置。

    2 氮化前的准备

    2.1 氮化前，应清洗和除去气门表面的油污和锈蚀。

    2.2 装炉时，气门间的距离和气门至阳极的距离应力求均匀，气门底盘间距应大于10mm，气门与阳极的间距应大于30mm。

    2.3 气门杆端部非氮化部位，应采用钢铁制件复盖等机械屏蔽进行防渗。

    3 氮化工艺控制。

    3.1 预抽真空应尽量接近设备的极限真空度。

    3.2 起辉应采用小电流，溅射打弧阶段气压不宜超过 1.3X 10²Pa。

    3.3 升温阶段灭弧装置须投入使用，气压应控制在 1.3X 10²- 2.6X 10² Pa 范围。

    3.4 保温阶段气压应控制在 2. 6x10²-8.0x10²Pa 之间，并应尽量保持气体流量和气压的稳定。

    3.5 降温阶段气门应在真空或保护气氛中冷却，出炉温度不应高于150 ℃。

    3.6 应对氮化工艺操作的全过程作详细记录。

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