离子渗氮设备的灭弧电路是设备关键技术之一。在离子渗氮过程中，由于各种原因辉光放电转变为弧光放电，如不采取措施，就会中止渗氮过程，严重时会熔烧工件，甚至顺坏电源设备。渗氮零件表面的清洁，烘烧等虽可减少弧光放电的次数，但在清理阶段不可避免地还会出现弧光放电，故设备必须带有灭弧措施。
各种灭弧方法：
（1）串联大阻值电阻
        串联大阻值电阻，当打弧时，电流猛增，在电阻上产生很大的电压降，从而使正负极间电压低于电弧点燃电压，而使电弧不能维持，同时也限制了电弧电流不至过大。对电流超过10A的设备在生产中实际应用还有一定的困难。
（2）电流截止负反馈灭弧
        严格说来，固定某一值的电流截止负反馈并不是灭弧，因为在大功率设备中，电流截止值往往在几十安，这样大的电流已经足以维持稳定电弧放电，而不会自动熄灭，由于可控硅触发后必须等电压换相时才能停止，隐刺在半周内电流值可能达到很大，这种灭弧方法时间约为10毫秒。
（3）L.C振荡灭弧
        L.C振荡灭弧电路是一种简单可靠地灭弧方法，尤其是离子渗氮的清理零件表面阶段，能以较快的速度利用弧光放电来打掉表面的污物，但其连续振荡的能量较大，对一些精密件，特别是需要保留锐角边的零件不合适。

 
（4）可控硅旁路灭弧
        可控硅旁路灭弧是快速灭弧的一种方法，它每次灭弧时间虽快，但因可控硅靠振荡关断，而电源向阴阳极间输电尚未停止，故立即又加上了电压，而打弧因素尚未消除，故随即又发生打弧，再次旁路，反复多次直至电源截止时弧光才真正熄灭，故在实际使用中，性能与L.C振荡相近。

（5）电子开关灭弧：
        我国已经制成了几种电路的快速灭弧电子开关，已经在最大的500KW设备上使用，其灭弧时间可达10-5秒数量级。
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