离子氮化热处理过程中正离子(N+）轰击阴极表面使阴极的电子和原子（或分子团）脱离阴极表面，这种现象称为阴极溅射。阴极溅射的特点是：
        电压低于某一值（阈值）时不会发生阴极溅射；
        阴极位降越大，阴极溅射越强烈；
        气体压强越小，溅射越大；
        工件温度越高，溅射越大。
        溅射可以除去阴极表面的异物，起到净化和活化工件表面的作用，所以离子法渗速要比气体法渗速快。
        溅射下来的活性粒子易于吸收气体或与气体反应生成化合物，如离子渗氮过程中溅射起来的Fe与N反应生成FexN粒子，起到渗氮载体的作用。
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